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GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機(jī)物。本機(jī)設(shè)有4個(gè)蒸鍍加熱舟，每個(gè)加熱舟都可獨(dú)立進(jìn)行蒸鍍，加熱舟上方有一個(gè)可旋轉(zhuǎn)擋板，當(dāng)其中一個(gè)加熱舟進(jìn)行蒸鍍時(shí)擋板將其它三個(gè)鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機(jī)太陽(yáng)能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個(gè)靶槍，一個(gè)弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)

GSL-1800X-ZF-AM連續(xù)式多腔室蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)是一款高真空的可連續(xù)進(jìn)樣的蒸發(fā)鍍膜儀，主要由傳遞室和蒸發(fā)鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實(shí)現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)，由調(diào)頻電機(jī)控制，自動(dòng)同步運(yùn)行，且往復(fù)位置和運(yùn)動(dòng)速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實(shí)現(xiàn)原點(diǎn)復(fù)位。特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機(jī)物。

VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實(shí)現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)，由調(diào)頻電機(jī)控制，自動(dòng)同步運(yùn)行，且往復(fù)位置和運(yùn)動(dòng)速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實(shí)現(xiàn)原點(diǎn)復(fù)位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設(shè)備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。